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光刻膠底抗反射涂層

產(chǎn)品簡(jiǎn)介
至昕有機硅光刻膠底抗反射涂層主要由硅樹(shù)脂、光引發(fā)劑、溶劑等組成,可有效減少反射和駐波效應、凹缺效應,提高尺寸均一性和圖案分辨率。

產(chǎn)品特性

  • 高折射系數
  • 高紫外光吸收率

產(chǎn)品應用

半導體集成電路制造

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